10AX066H3F34E2SG 100% Neien & Original Isolatiounsverstärker 1 Circuit Differential 8-SOP
Produit Attributer
EU RoHS | Konform |
ECCN (US) | 3A001.a.7.b |
Deel Status | Aktiv |
HTS | 8542.39.00.01 |
Automotive | No |
PPAP | No |
Familljennumm | Arria® 10 GX |
Prozess Technologie | 20 nm |
Benotzer I/Os | 492 |
Zuel vun Registere | 1002160 |
Betriebsspannung (V) | 0.9 |
Logik Elementer | 660000 |
Zuel vun Multiplikatore | 3356 (18x19) |
Programm Memory Typ | SRAM |
Embedded Memory (Kbit) | 42660 |
Total Zuel vun Block RAM | 2133 |
Apparat Logik Unitéiten | 660000 |
Apparat Zuel vun DLLs / PLLs | 16 |
Transceiver Channels | 24 |
Transceiver Geschwindegkeet (Gbps) | 17.4 |
Engagéierten DSP | 1678 |
PCIe | 2 |
Programméierbarkeet | Jo |
Reprogrammability Ënnerstëtzung | Jo |
Kopie Schutz | Jo |
In-System Programméierbarkeet | Jo |
Geschwindegkeet Grad | 3 |
Single-Ended ech / O Standarden | LVTTL|LVCMOS |
Extern Memory Interface | DDR3 SDRAM|DDR4|LPDDR3|RLDRAM II|RLDRAM III|QDRII+SRAM |
Minimum Operatiouns Versuergungsspannung (V) | 0,87 |
Maximal Betriebsspannung (V) | 0,93 |
I/O Spannung (V) | 1.2|1.25|1.35|1.5|1.8|2.5|3 |
Minimum Operatiounstemperatur (°C) | 0 |
Maximal Operatiounstemperatur (°C) | 100 |
Fournisseur Temperatur Grad | Verlängert |
Handelsnumm | Arria |
Montéierung | Surface Mount |
Package Héicht | 2.63 |
Package Breet | 35 |
Package Längt | 35 |
PCB geännert | 1152 |
Standard Package Numm | BGA |
Fournisseur Package | FC-FBGA |
Pin Zuel | 1152 |
Lead Form | Ball |
Integréiert Circuit Typ
Am Verglach mat Elektronen hunn Photonen keng statesch Mass, schwaach Interaktioun, staark Anti-Interferenzfäegkeet, a si méi gëeegent fir Informatiounsiwwerdroung.Optesch Interkonnektioun gëtt erwaart d'Kärtechnologie ze ginn fir d'Energieverbrauchsmauer, d'Späichermauer an d'Kommunikatiounsmauer duerchzebriechen.Illuminant, coupler, modulator, waveguide Apparater sinn integréiert an der héich Dicht opteschen Fonctiounen wéi photoelectric integréiert Mikro System, kann Qualitéit realiséieren, Volumen, Muecht Konsum vun héich Dicht photoelectric Integratioun, photoelectric Integratioun Plattform dorënner III - V Verbindung semiconductor monolithic integréiert (INP) ) passiv Integratioun Plattform, Silikat oder Glas (planar opteschen Waveguide, PLC) Plattform a Silicon-baséiert Plattform.
InP Plattform gëtt haaptsächlech fir d'Produktioun vu Laser, Modulator, Detektor an aner aktive Geräter benotzt, niddereg Technologieniveau, héich Substratkäschte;Benotzt PLC Plattform fir passiv Komponenten ze produzéieren, niddereg Verloscht, grousse Volumen;De gréisste Problem mat béide Plattformen ass datt d'Materialien net mat Silizium-baséiert Elektronik kompatibel sinn.De prominentste Virdeel vun der Silizium-baséierter photonescher Integratioun ass datt de Prozess kompatibel ass mam CMOS-Prozess an d'Produktiounskäschte sinn niddereg, sou datt et als déi potenziell optoelektronesch a souguer all-optesch Integratiounsschema ugesi gëtt.
Et ginn zwou Integratiounsmethoden fir Silizium-baséiert photonesch Geräter a CMOS Circuits.
De Virdeel vun der fréierer ass datt d'photonesch Apparater an elektronesch Geräter separat optimiséiert kënne ginn, awer déi spéider Verpakung ass schwéier a kommerziell Uwendungen si limitéiert.Déi lescht ass schwéier ze designen an d'Integratioun vun deenen zwee Apparater ze veraarbechten.Am Moment ass Hybridversammlung baséiert op Nuklearpartikelintegratioun déi bescht Wiel